1. 장치 개요
고성능 무산소 건조기는 산소 농도가 500ppm으로 낮은 분위기에서 최대 500℃의 온도에서 열처리를 할 수 있다.따라서 이 시리즈는 MLCC와 LTCC 탈지, 각종 항산화 열처리에 매우 적합하다.고온 무산소 건조기는 독점적인 챔버 구조와 밀봉 기술을 사용하여 뛰어난 기밀성과 온도 균일성을 가지고 있으며, 동시에 더 높은 안정성과 재현성을 확보한다.냉각수로 순환하는 외부 냉각기구를 함께 적용해 난로 내 분위기에 영향을 주지 않고 빠르게 냉각할 수 있어 처리 시간을 단축할 수 있다.
2. 적용 범위
고화 반도체 웨이퍼(포토레지스트 PI, PBO 고화), IC 패키징(구리 기판, 실버 젤, 실리콘, 에폭시 수지), 유리 기판 구이, 고정밀 퇴화 처리 등에 적용된다.
| 적용 범위 |
가열 목적 |
객체 가열 |
| 전자 부품 |
탈지 (접착제 소결), 경화 |
세라믹 소재/판재, MLCC(다중 레이어 세라믹 콘덴서), LTCC(저온 공소 세라믹), 세라믹 O2 센서, 페로브스카이트 코어, FPC(유연성 인쇄회로), 공모 노이즈 필터, 열 저항 |
| 정밀원료 |
탈지, 경화, 해열, 소결, 건조 |
웨이퍼,실리콘칩,탄화규소세라믹,정전기흡판,질화알루미늄,광학렌즈,유연성기판,충전전지,전극재료,하네스(동선),촉매,단조품 |
3. 제품 매개 변수
모델 |
YH-OXY-500C는 |
작업 안정 범위 |
상온-500℃ |
극한 산소 함유량 |
50PPM 이내 |
냉각 방식 |
물이 차갑고 기온이 내려가다. |
치수 | |||
작업 치수 |
H600 * W600 * D600mm |
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스튜디오 | |||
Room 수 |
단일 Room, Room 4층 |
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내부 구성 |
스테인리스강 슬레이트 4개를 배치하고, 슬레이트에 스테인리스강 그물 구멍판을 감싸고, 슬레이트 간격을 조절할 수 있다 |
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윈드 히팅 시스템 | |||
가열 속도 |
온도 상승 속도 8-10 ℃/min, 항온 시간 제어 가능 |
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냉방 속도 |
500℃ 온도를 100℃ ≤ 50분으로 낮춘다(냉각수 온도에 따라 시간에 차이가 있음) |
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질소 충전 장치 |
자동으로 질소 충전 과정을 제어하여, 제품이 무산소 또는 저산소 농도 환경에서 가열되도록 보장하여, 제품의 산화를 방지한다. |
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전기 제품 | |||
초온 보호 장치 |
독립 지능 온도 제어기, 실제 측정 온도가 초온 보호기 설정치를 초과하면 자동으로 가열 전원을 차단하여 이중 보호 작용 |
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시스템 보호 |
설비에는 결상검측, 자가진단, 누전보호, 초온보호, 돌발상황파라미터 자주보존, 센서자진정, 과부하보호, 접지보호, 풍기과열보호, 전지출입문, 조작인원 멍청방지설치보호 |
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사용 환경 |
환경 조건: 온도 5~40 ℃ 사이: 습도 ≤ 85% R.H 电源:AC380V, 50HZ 사용 환경: 강한 진동, 강한 자기장 영향, 부식 가스, 먼지 없음.기압 86~106Ka 질소 공급원: 0.8MPA, 100L/MIN 벽면 거리 ≥ 500mm |
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